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    多晶硅行业废气解决方案

    发布时间:2021-03-02

    浏览次数:253


    三氯氢硅生产过程中产生的工艺排放气,主要含:

    氯硅烷DCS (H2SiCl2), TCS (HSiCl3), STC (SiCl4)

    氯化氢(HCl),H2,N2

    Process Vent Gas in TCS Production, mainly includes: DCS, TCS, STC, HCL , H2, N2

    特别设计的气液分离管、喷淋塔、文丘里、碱洗塔、水封罐的组合Special designed combination of KO Drum, Spray Tower, Venturi, Caustic Scrubber, Seal Pot.

    不易堵塞,全自动Non-clog, Automatic Control

    成熟设计Verified Design

    多重安全设计Safe Design Considerations

    剧烈放热反应Intense Exothermic Reaction

    易燃易爆的氢气Explosive H2 Handling

    高粘度硅酸盐溶液容易堵塞设备Viscous Silicate Tend to Clog Equipment

    防静电设计---至关重要Critical design for Electrostatic charge

    碳涂层内衬的918博天堂FRP with Carbon Gel Liner


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